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热解氮化硼主要用途

2018-03-15 17:37:11 作者: 天元化工新材厂家  阅读人数:105

热解氮化硼(PBN)材料具有高纯度、化学惰性以及优异的结构和性能使其成为元素提纯、化合物及化合物半导体晶体生长的理想容器,尤其是用于制备新一代化合物半导体GaAs、InP等,同时还广泛应用于航空、航天、电子、化工、特种冶金、医疗等各个领域。PBN的主要用途如下:

(1)化合物半导体单晶生长用容器

化合物半导体单晶(比如GaAs、InP等)的生长需要极其严格的环境,包括温度、原料纯度以及生长容器纯度等。PBN是目前化合物半导体单晶生长用最为理想的容器,无可替代。化合物半导体单晶生长方法目前主要有液封直拉法(LEC)、水平布里曼法(HB)和垂直布里曼法(VB和VGF)等方法,对应的PBN有LEC坩埚、VB坩埚和VGF坩埚等等;

(2)分子束外延用束源坩埚

分子束外延(MBE)是当今世界最重要的Ⅲ-Ⅴ族和Ⅱ-Ⅵ族半导体晶体外延生长工艺之一。PBN坩埚是MBE过程中用作装蒸发元素和化合物最佳的容器;

(3)OLED用坩埚

OLED想必大家应该都不会陌生了,最近非常火热。据说iphone 8要开始采用OLED屏幕了。OLED用坩埚就是在OLED生产线上作为蒸发元容器所用。

(4)PBN 环和片

PBN在超高真空下可被加热到2300℃而不发生分解,具有很高的纯度,达到99.99%以上,高温下不释放气体杂质等诸多优良特性,这些特性使得PBN可以被加工成不同形状的环和片,从而广泛的应用于高温、真空、MBE和OLED等领域,作为支撑架、绝缘件和垫片等使用。

(5)PBN 涂层

在液相外延和MOCVD中,PBN常用来对设备中的石墨件进行涂层保护,还可以作为石墨加热器的外涂层(PG/PBN加热器),从而防止石墨发热体在高温下发生挥发。另外,由于PBN薄膜具有极高的化学惰性,可以作为半导体刻蚀工艺中的隔膜或钝化膜;

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