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离氮化硼的子束溅射沉积法
时间：2019-04-03 作者： 天元化工新材厂家 阅读人数：47
激光无心插柳火成岩法制取氮化硼奈米塑料膜按照纯净度为99.5%的nik箔为结构层做好六方氮化硼pe膜的基性岩。前提将Ni箔由辅组质谱仪器实现原位预离子注入，之后在1000℃下固溶处理10min。并且在主质谱仪器发送的氩电子束从六方氮化硼砷化镓上浪涌出B电子层和N共价键，在除盐后的Ni箔上完成基性岩，配制氮化硼納米pe膜原料。
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