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半导体参杂用的三氧化二硼有什么要求

时间:2020-11-05 作者: 天元航材  阅读人数:92

半导体参杂用的三氧化二硼有什么要求

首先,要保证掺杂剂的纯度,三氧化二硼可以用涂布法。可以用SiO2的乳胶--即烷氧基硅烷水解聚合物,作为有一定黏度的涂布的材料。然后,加入溶剂(乙醇,酯类)与三氧化二硼相调和,涂布于半导体上。

一般而言,此类半导体是Si 材料。对于化合物半导体,问题就没有那样简单,如III-V、II-VI 、IV-VI族化合物半导体等,就需要另外方法去处理。如离子注入等等。

仅以硅材料而言,方法还有:如,三氧化二硼、BN的高温氧化。也有用硼酸三甲酯、乙硼烷、三溴化硼等等的氧化,沉淀和扩散。但是掺杂剂的纯度一定要高。

用做硅酸盐分解时的助融剂。半导体材料的掺杂剂,耐热玻璃器皿和油漆耐火添加剂,在冶金工业上用于合金钢的生产,用做有机合成的催化剂,高温用润滑剂的添加剂,也可用于环保方面。

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