多层六方氮化硼生产机制

天元航材化工原料厂家的小编今天给大家介绍下关于多层六方氮化硼生产机制的相关介绍，我们是一家生产销售六方氮化硼，白石墨等氮化硼化工原料的厂家，已有50年的生产工艺经验，那么您知道多层六方氮化硼的生长机制是怎么样的吗？一起来看看吧！

六方氮化硼（H-BN）具有优异的综合性能和特殊的二维结构，在许多高科技领域具有非常广阔的应用前景。自石墨烯发现以来，二维层状材料成为近几十年来的研究热点，在诸多领域显示出巨大的应用潜力。其中，有几个原子层的六方氮化硼（H-BN），又称白石墨烯。六方氮化硼（H-BN）是第三代宽禁带半导体的代表材料之一，由于其宽禁带、高温稳定性、优良的机械性能、低介电常数和化学惰性。目前，晶圆级单晶H-BN单层的可控合成已取得突破。然而，由于先进的H-BN合成技术发展缓慢，且缺乏对传统方法生长机理的研究，大尺寸、高质量H-BN的可控合成及其实际应用受到限制。
现阶段,h-BN原材料的生长发育及制作加工工艺尚不成熟,目前的化学气相沉积(CVD)加工工艺温度高,腐蚀刺激性强,加工工艺操纵繁杂,还有非常大的提升前景.中国科学院上海微系统与信息技术研究所副研究员吴天如精英团队和华东师范大学专家教授袁清红精英团队，根据原位合成、表现科学研究与第一性原理计算方法，指出铁硼（Fe2B）合金表面高质量多层六方氮化硼（h-BN）原子空位协助生长发育新机制。
下面介绍一种多层六方氮化硼的制备方法，包括以下步骤：含硼和氮的化合物或含硼和氮的化合物在泡沫材料的催化下进行化学气相沉积反应，沉积在基材上，即得到多层六方氮化硼。
1、泡沫材料的元素选自以下至少一种：钨、镍、铜、铁、钌、铝、钛、钴、铁、铬、镁、锰、钼、铑、钽；
2、每英寸泡沫材料的孔数可以为10～1000个，具体数量可以是100个、10个～1000个、100个～1000个或50个～500个。
3、卤化硼可以是氯化硼、氟化硼或溴化硼中的至少一种；10.过渡金属可以选自铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、钴(CO)、铁(Fe)、铂(PT)、金(Au)、铬(Cr)中的至少一种)、镁(MG)、锰(Mn)、钼(Mo)、钌(RH)、钽(TA)、钛(Ti)、铑(RH)和钨(W)
4、含硼化合物包括乙硼烷、氯化硼、溴化硼和碘化硼中的至少一种；5.氮化合物是氨；

6、含硼和氮的化合物包括氨基硼烷和/或环硼烷；

7、基材为过渡金属；

8、基板的厚度可以是0.1μm～2000μm，具体可以是25μm、25μm～2000μm、0.1μm～25μm或10μm～1000μm。
9、化学气相沉积反应的温度以1-200C/min的速度冷却至室温，可以是102.5、1-102.5C/min、102.5-200C/min或50-150C/min。
11、泡沫材料孔径可以0.01mm～1mm，具体可以0.1mm、0.01mm～0.1mm、0.1mm～1mm、0.05mm～0.5mm；
14、化学气相沉积反应，系统压力可为1Pa～105Pa，具体可为16Pa；
15、化学气相沉积反应温度可800℃～1500℃，具体可1050℃；
16、化学气相沉积反应时间可以1min～200min，具体可以30min。
17、在化学气相沉积中，载气为氢气、氩气和氮气中的至少一种。
12、载气流量可以0.1sccm～3000sccm，具体可以是10sccm、0.1sccm～10sccm、10SCcm～3000sccm或1SCcm～1000sccm；
13.在载气流中，泡沫材料和基板靠近泡沫材料放置，基板之间的距离为0~10cm。
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参考资料:https://news.sciencenet.cn/htmlnews/2020/10/446827.shtmhttp://www.lps.ecnu.edu.cn/4b/df/c4826a347103/page.htm